涂布机开发红外加热器

在光刻车间，光刻胶烘烤并非可有可无——而是成品率和废料堆积之间的分界线。在软烘烤过程中，2°C的漂移就足以在晶圆上扩散CD变化。如果硬烘烤不一致，你就会遭遇污垢、粘附力差和对剥离剂无效的残余薄膜。涂布/显影的红外加热器必须提供可重复的热行为，一次又一次地循环，而不会将颗粒倾倒到流中或缩小工艺窗口。...