光学晶圆处理加热器

在晶圆厂车间，光刻胶处理对温度漂移没有容忍度。软烘或硬烘过程中晶圆上温度偏差0.5°C就会导致线宽变化，一个颗粒污染事件可能造成大量产品报废。你需要的晶圆处理加热器应表现为固定的工艺常数，而非额外的变量。 真正重要的是可重复的热量传递，同时不干扰洁净室环境。我们基于短波红外（SWIR）和石英增强的...