停止加热空气：更有效的半导体干燥方式 在制造半导体时，去除水分是不可或缺的步骤。不过，长期以来，人们通常使用大型对流式烤箱来达到这一目的。但问题在于，这类烤箱耗能极高——为了干燥一小块半导体，就必须加热整个烤箱内的空气。这无疑是一种浪费。 因此，我们转而使用数字式红外干燥控制器。与其加热整个空间，...

在晶圆厂生产线，光刻胶烘烤过程中发热漂移半摄氏度就足以影响线宽并导致良率下降。温度控制不能靠猜测——你需要像真正的工艺参数一样的热控，而不是一个不停变化的目标。 技术要点 我们围绕重复性打造了晶圆烘干机：晶圆级均匀性控制在±0.1℃内，设定点在软烘和硬烘过程中保持稳定，升温速率满足光刻胶的热预算要...