راه‌های صحیح استفاده از حرارت مادون قرمز و سنسورهای مربوطه در کارخانه‌های تولید ویفرها در حال حاضر، تلاش زیادی برای کاهش اثرات زیست‌محیطی ابزارهای...

حفظ تمیزی وایرهای MEMS در حین خشک کردن اگر از اتاق‌های پاکسازی درجه ۱۰۰ استفاده می‌کنید، قطعاً با مشکلات ناشی از وجود گازهای سمی یا ذرات ناخواسته...

نگهداری ویفرها در حالت تمیز: واقعیت درباره گرمایش اگر از یک اتاق تمیز درجه ۱۰۰ استفاده می‌کنید، می‌دانید که فیلترهای هوا تنها نیمی از راه حل‌ها...

تنظیم دمای مناسب در کارخانه‌های تولیدی اگر تا به حال با فرآیند خشک‌کردن ویفرها سروکار داشته‌اید، می‌دانید که چقدر این کار می‌تواند پرچالش باشد؛ چرا...

چگونه گرمایش ویفرهای سیلیکونی را به درستی انجام دهیم؟ هنگام گرم کردن ویفرهای سیلیکونی، هر وات انرژی اهمیت زیادی دارد. مسئله فقط افزایش دما نیست؛ بلکه...

وقتی که در یک اتاق تمیز دسته ۱۰۰ فعالیت می‌کنید، «تقریباً تمیز» کافی نیست. حتی یک تکه کوچک از عناصر گرمایشی – چیزی که حتی نمی‌توان آن را دید –...

در خط تولید، آن ویفر SiC در حالت انتظار است؛ منتظر فرآیند پختن فوتورزیست که الگو را ثابت می‌کند. حتی کمترین تغییر دما نیز می‌تواند باعث اختلال در...

در فرآیند لیتوگرافی، وجود نقاط داغ با دمای ۲ درجه سانتی‌گراد روی ویفر، در حین فرآیند گرم کردن آن، می‌تواند باعث تغییر ابعاد کلیدی ویفر شود؛ همچنین،...

On the fab floor، جابجایی نیم درجه در دمای پخت فتو رزیست کافی است تا عرض خط‌ها از حد مجاز خارج شده و باعث کاهش راندمان تولید شود. دما را نمی‌توان به...

در خط تولید، ویفرهای الکترونیک انعطاف‌پذیر تحمل تغییرات حرارتی را ندارند. یک پخت نرم که حتی کمی انحراف داشته باشد، ابعاد حیاتی را در مراحل لیتوگرافی...

در سالن تولید، فرآیندهای مربوط به فوتورزیست تحمل نوسانات حرارتی را ندارند. تغییر دمای 0.5°C در طول پخت نرم یا پخت سخت روی ویفر باعث تغییر ضخامت خطوط...

در سالن تولید، سریع می‌آموزید که تغییر حتی نیم درجه‌ای در پروفایل نرم‌پخت می‌تواند ضخامت فوتورزیست را تغییر داده و باعث ایجاد انحراف در ابعاد بحرانی...