در فرآیند لیتوگرافی، وجود نقاط داغ با دمای ۲ درجه سانتیگراد روی ویفر، در حین فرآیند گرم کردن آن، میتواند باعث تغییر ابعاد کلیدی ویفر شود؛ همچنین، این وضعیت میتواند باعث اتلاف ساعتها زمان لازم برای فرآیند تولید شود. نمیتوان پس از هر بار تولید، به دنبال جبران این تغییرات حرارتی بود. هیتر مادون قرمز مورد استفاده برای خارج کردن گازهای اضافی از ویفر، باعث میشود که دمای ویفر در محدوده مناسبی باقی بماند؛ یعنی دمای ویفر در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد باقی میماند، و این وضعیت در هر بار تولید تکرار میشود. این دستگاه در اتاقهای پاکسازی کلاس ۱-۱۰۰ کار میکند؛ هیچ ذرهای تولید نمیشود، و از طراحی بسته و کمگازخروجی استفاده میشود. بنابراین، میتوان از این دستگاه برای عملکرد ۲۴/۷ استفاده کرد؛ بدون هیچ مشکلی، و با فاصلههای زمانی مناسب برای تعمیرات.
چرا این روش در عمل مؤثر است؟ در فرآیندهای خشک کردن ویفر، خارج کردن گازهای اضافی، و گرم کردن ویفر، استفاده از مادون قرمز باعث کاهش زمان لازم برای انجام این فرآیندها میشود؛ همچنین، دمای ویفر به خوبی کنترل میشود. با این روش، بازدهی فرآیند افزایش مییابد، بدون اینکه کیفیت ویفر کاهش یابد. وقتی که فرآیند گرم کردن قابل تکرار باشد، شیمی مواد مورد استفاده در لیتوگرافی نیز قابل پیشبینی خواهد بود؛ در نتیجه، باقیماندههای کمتری وجود دارد، نقصهای کمتری رخ میدهد، و کنترل ابعاد ویفر نیز بهتر خواهد بود. همین سیستم حرارتی، فرآیندهای لازم برای تکمیل فرآیند تولید را نیز با توزیع انرژی کنترلشده انجام میدهد؛ بنابراین، میتوان از انرژی کمتری برای انجام این فرآیندها استفاده کرد، در حالی که هدف فرآیند همچنان محقق میشود.
چه چیزهایی برای کار صحیح این دستگاه ضروری است؟ تطبیق طیف مادون قرمز و تراکم انرژی آن با ویفر، بسیار مهم است. هیتر به خوبی در ویفر ادغام میشود، اما رابط کاربری و سیستم خنککننده دستگاه باید با محدودیتهای مربوط به اتاق تولید هماهنگ باشد. باید به مسائل مربوط به جذب حرارت و محافظت از ابزارها و سنسورهای مجاور توجه کرد. با تنظیم صحیح این دستگاه، میتوان از یک فرآیند تولید پایدار برخوردار بود؛ فرآیندی که در طول فرآیندهای آزمایشی و تولید روزانه نیز پایدار باقی خواهد ماند.