ওয়েফার ফ্যাব্রিকেশনে আইআর হিটিং ও সেন্সিং ঠিকভাবে ব্যবহার করা খুবই গুরুত্বপূর্ণ। বর্তমানে সেমিকন্ডাক্টর উপকরণগুলোকে আরও কার্বন-নিউট্রাল করার জন্য...

শুকানোর প্রক্রিয়ায় MEMS ওয়েফারগুলোকে নির্মল অবস্থায় রাখা যদি আপনি ক্লাস ১০০ ক্লিনরুম ব্যবহার করেন, তাহলে আপনি নিশ্চয়ই জানেন যে গ্যাস নির্গমন বা...

আপনার ওয়েফারগুলোকে নির্মল রাখা: হিটিং সংক্রান্ত সত্যগুলো যদি আপনি ক্লাস ১০০ মানের ক্লিনরুম ব্যবহার করেন, তাহলে আপনি ইতিমধ্যেই জানেন যে এয়ার...

আপনার ফ্যাবে সঠিক তাপ প্রদান করা যদি আপনি কখনও ওয়েফার কিউরিং-এর কাজ করে থাকেন, তাহলে আপনি অবশ্যই ওয়েফারগুলো বেঁকে যাওয়া বা রাসায়নিক পদার্থগুলো...

সিলিকন ওয়েফারগুলোকে সঠিকভাবে উত্তপ্ত করা যখন আপনি সিলিকন ওয়েফারগুলোকে উত্তপ্ত করেন, তখন প্রতিটি ওয়াটই গুরুত্বপূর্ণ। এখানে শুধুমাত্র তাপ বাড়ানোই...

যখন আপনি ক্লাস ১০০ মানের ক্লিনরুম পরিচালনা করেন, তখন “প্রায় পরিষ্কার” অবস্থা যথেষ্ট নয়। হিটিং এলিমেন্ট থেকে আসা একটি ছোট্ট কণাও যথেষ্ট—যা দেখা যায়...

লাইনে রাখা সিসি ওয়েফারটি সেখানেই থাকে; ফটোরেজিস্টকে ঠিকভাবে আটকে রাখার জন্য অপেক্ষা করে। তাপমাত্রায় এমনকি অল্প পরিবর্তনও হলেই ওয়েফারের গুণমান কমে...

লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায়, সফ্ট বেকিংয়ের সময় ওয়েফারে ২°C তাপমাত্রার পার্থক্য থাকলে এটি ওয়েফারের গুরুত্বপূর্ণ মাত্রাগুলোকে পরিবর্তন করে দেয়; ফলে...

ফ্যাব ফ্লোরে ফটোরেসিস্ট বেকের সময় অর্ধ ডিগ্রি ড্রিফটও লাইনওয়idthে প্রভাব ফেলার জন্য যথেষ্ট এবং উৎপাদন হার কমাতে শুরু করে। তাপমাত্রাকে একটি অনুমানের...

লাইন বরাবর, নমনীয় ইলেকট্রনিক্স ওয়েফার তাপীয় অব্যবস্থাকে মাফ করে না। একটি নরম বেক যা সামান্যও সরে গেলে পরবর্তী লিথোগ্রাফি পদক্ষেপে গুরুত্বপূর্ণ...

On the fab floor, photoresist processing doesn’t forgive thermal drift. A 0.5°C hot/cold spread across the wafer during soft bake or hard bake shows...

On the fab floor, আপনি দ্রুত শিখে নেন যে একটি soft bake profile মাত্র অর্ধ ডিগ্রি পরিবর্তন হলেও photoresist এর পুরুত্বকে সরিয়ে দিতে পারে এবং wafer...