Wafer Üretiminde IR Isıtma ve Sensör Kullanımının Doğru Yöntemi Günümüzde yarı iletken üretim ekipmanlarının daha az karbon salınımına sahip olması...

Kurutma sırasında MEMS yongalarınızı lekesiz tutmak Eğer 100 sınıfı bir temiz oda kullanıyorsanız, gaz salınımı veya istenmeyen partiküllerin ortaya...

Wafer’larınızı lekesiz tutmak: Isıtma konusundaki gerçekler Eğer Class 100 standartlarına uygun bir temiz oda kullanıyorsanız, hava filtrelerinin...

Fabrikanızda Doğru Isı Seviyesini Sağlamak Eğer daha önce waferlerin kurutulmasıyla ilgili işlemler yaptıysanız, deformasyon veya düzensiz kimyasal...

Silikon waflarını doğru şekilde ısıtma Silikon waflarını ısıttığınızda her bir watt çok önemlidir. Mesele sadece ısıyı artırmak değil; enerjinin...

Sınıf 100 temiz oda koşullarında çalışırken “neredeyse temiz” olmak yeterli değildir. Isıtıcı elemanlardan çıkan küçücük parçacıklar bile tüm...

İşlem hatlarında, o SiC yongaları orada duruyor ve desenin sabitlenmesi için fotoresistanın pişirilmesini bekliyor. Sıcaklıkta meydana gelen en küçük...

Litografide, yumuşak fırınlamalar sırasında wafere yayılan 2°C’lik sıcak noktalar, kritik boyutları değiştirebilir ve saatler süren işlemleri boşa...

Fabrika alanında, fotoresist pişirme sırasında yarım derece kayma, hat genişliklerini bozmak ve verim kaybına neden olmak için yeterlidir. Sıcaklığı...

Hat hattında, esnek elektronik wafer’lar termal sapmalara tolerans göstermez. Biraz dahi sapma yapan yumuşak pişirme, sonraki litografi adımlarında...

Fabrika katında, fotoresist işlemi termal sapmalara tolerans göstermez. Soft bake veya hard bake sırasında wafer üzerinde 0,5°C sıcak/soğuk dağılımı,...

Üretim katında hızlı öğrenirsiniz ki, yarım derece bile kayan bir soft bake profili fotoresist kalınlığını değiştirebilir ve wafer üzerinde kritik...