Op het gebied van lithografie kan een warmteverschil van 2°C op het wafer tijdens het zachte bakproces leiden tot veranderingen in de cruciale afmetingen van het wafer. Dit kan ook urenlang blootstelling aan straling veroorzaken. Je kunt niet bij elke batch rekening houden met deze thermische afwijkingen. De infraroodverwarmer zorgt er juist voor dat de temperatuur op het juiste niveau blijft – op het niveau van het resistmateriaal, en niet door procesvariaties.
Wat technisch gezien belangrijk is:
We gebruiken kortegolflengte-infraroodstraling voor een snelle en directe verwarming. Deze methode is aangepast aan de manier waarop het wafer zelf reageert. Hierdoor wordt er een temperatuurnormale verdeling bereikt van ±0,1°C over het hele procesgebied. De temperatuur blijft consistent, zodat de resultaten steeds binnen de vereisten vallen. De apparatuur kan worden gebruikt in cleanrooms van klasse 1–100. Er worden geen deeltjes geproduceerd, en de apparatuur heeft een gesloten ontwerp met minimale uitstoot van gassen. Hierdoor krijg je een stabiele prestatie over 24/7 – zonder onverwachte stilstanden, en met onderhoudsintervallen die gemakkelijk kunnen worden gepland.
Waarom het in de praktijk werkt:
Bij het drogen van het wafer, het verwijderen van gassen, het zachte en harde bakken van het resistmateriaal, zorgt het infraroodverwarmingsapparaat voor een snel opwarmen en houdt de temperatuur stabiel. Hierdoor neemt de productiecapaciteit toe, zonder dat de kwaliteit afneemt. Wanneer het bakproces reproduceerbaar is, blijft de chemie van het resistmateriaal voorspelbaar: minder resten, minder defecten, en betere controle over de afmetingen van het wafer. Hetzelfde warmtesysteem kan worden gebruikt voor andere bewerkingsstappen, waardoor minder energie nodig is, terwijl de gewenste resultaten nog steeds worden bereikt.
Wat je moet doen om het goed te laten werken:
Het is belangrijk om het infraroodspectrum en de vermogensdichtheid af te stemmen op de ondergrond waarop het wafer wordt geplaatst. De verwarmer moet goed kunnen worden geïntegreerd in het systeem, maar ook de interface en de koelsystemen moeten passen bij de mogelijkheden van de behuizing en de afvoersystemen. Plan goed voor de thermische eigenschappen van het apparaat, zodat de aangrenzende componenten niet beschadigen. Als alles goed wordt ingesteld, krijg je een stabiel procesresultaat dat standhoudt tijdens het kalibratieproces en in de dagelijkse productie.