Op de productielijn ligt die SiC-wafer gewoon te wachten, tot de fotoresist wordt verhit, zodat het patroon vastligt. Zelfs een kleine...

Op de productievloer is een afwijking van een halve graad tijdens het bakken van photoresist al genoeg om de lijnbreedtes te verstoren en een daling...

Op de productievloer vergeven photoresist-processen geen thermische afwijkingen. Een temperatuurverschil van 0,5°C over de wafer tijdens soft bake of...

Op de productievloer leer je snel dat een zachte bakprofielafwijking van zelfs een halve graad de dikte van de photoresist kan beïnvloeden en...