Op de productielijn ligt die SiC-wafer gewoon te wachten, tot de fotoresist wordt verhit, zodat het patroon vastligt. Zelfs een kleine temperatuurswisseling kan er toe leiden dat de controle over de dimensies van de wafer niet meer goed werkt. Hierdoor kan de kwaliteit van de producten al eerder verslechteren, nog voordat de etcher zelfs maar in actie komt.
Wat er echt toe doet We gebruiken een halogeenlamp met kortegolflengte NIR-licht, geplaatst in een kwartsomhulsel. Deze lamp zorgt voor een snelle thermische respons en een constante temperatuur op het oppervlak van de wafer. We houden de temperatuur op ±0,1°C, zodat de resultaten consistent blijven, ongeacht hoeveel keer de wafer wordt verhit.
Het apparaat is geschikt voor gebruik in een schone ruimte van klasse 1–100. Het is gemaakt van materialen die weinig gassen afgeven, zodat er geen vervuiling op de wafer komt. De stroomvoorziening is stabiel, en de lamp behoudt zijn prestaties over lange tijdperken – sommige apparaten hebben al meer dan 5.000 uur lang gewerkt zonder dat de prestaties meer dan 5% daalden.
Waarom dit belangrijk is voor SiC Bij het verwerken van SiC-wafers mag er geen sprake zijn van oneffenheden in de temperatuur. De lamp zorgt ervoor dat de verhittingsstap onder controle blijft – de fotoresist gedraagt zich zoals het hoort. Hierdoor worden afwijkingen in de dikte van het patroon verminderd.
De snelheid van het proces is hoog, maar dit zorgt er niet voor dat het proces onvoorspelbaar wordt. Bovendien zorgt de schone omgeving ervoor dat er minder schade door vuil ontstaat. U krijgt zo een proces dat betrouwbaar is, met minder afwijkingen en constante kwaliteit tussen de verschillende wafers – precies wat nodig is voor lithografie.
Wat u moet weten Tijdens de installatie moet u ervoor zorgen dat de lamp en de connectoren passen bij de interface van het apparaat van de fabrikant. Ook de alignering is belangrijk – houd de afstand tussen de componenten binnen de vereiste grenzen, anders gaat de constante temperatuur verloren.
De uitgangssnelheid van de lamp is hoog, dus houd u zich aan de richtlijnen met betrekking tot thermische beheersing en bescherming. Anders kunnen er lokale warmtepunten ontstaan. Houd ook de kalibratie op de afgesproken tijdstippen, zodat de temperatuur constant blijft en het proces binnen de vereisten valt.