Menggunakan Pemanasan dan Pengesanan Inframerah dengan Betul dalam Kilang Pembuatan wafer Kini, terdapat tekanan yang tinggi untuk menjadikan...

Menjaga kebersihan wafer MEMS semasa proses pengeringan Jika anda beroperasi di bilik bersih kelas 100, anda pasti sudah tahu betapa menyakitkannya...

Menjaga Wafer Anda Supaya Tetap Bersih: Kebenaran Mengenai Proses Pemanasan Jika anda mengendalikan bilik Bersih kelas 100, anda pasti tahu bahawa...

Memastikan Suhu yang Tepat dalam Proses Pembuatan Wafer Jika anda pernah berurusan dengan proses pengeringan wafer, pasti anda tahu betapa...

Cara Memanaskan Wafer dengan Betul Ketika memanaskan wafer silikon, setiap watt tenaga yang digunakan sangat penting. Bukan sekadar meningkatkan suhu...

Ketika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, konsep “hampir bersih” sudah tidak mencukupi lagi. Sebuah zarah kecil dari komponen pemanas pun...

Di lini pengeluaran, wafer SiC itu hanya berada di situ, menunggu proses pembakaran fotoresist yang bertujuan untuk “mengunci” pola pada permukaan...

Pada proses litografi, adanya kawasan panas sebanyak 2°C pada permukaan wafer semasa proses pemanasan akan mengubah dimensi penting wafer tersebut,...

Di lantai pembuatan, perubahan setengah darjah semasa proses pembakaran photoresist sudah cukup untuk mengubah lebar garis dan memulakan kehilangan...

On the fab floor, pemprosesan photoresist tidak memaafkan pergeseran terma. Sebaran suhu panas/sejuk 0.5°C pada wafer semasa soft bake atau hard bake...

On the fab floor, anda akan cepat belajar bahawa profil soft bake yang berubah walaupun setengah darjah boleh mengubah ketebalan photoresist dan...