Di lini pengeluaran, wafer SiC itu hanya berada di situ, menunggu proses pembakaran fotoresist yang bertujuan untuk “mengunci” pola pada permukaan wafer tersebut. Walaupun perubahan suhu sekecil sedikit pun boleh menyebabkan ketidakstabilan dalam kawalan dimensi wafer tersebut. Hasil pengeluaran pun akan merosot sebelum proses etching pun bermula.
Apa yang sebenarnya penting
Kita menggunakan lampu pemanas jenis NIR berfrekuensi tinggi yang diletakkan di dalam selubung kuarsa. Lampu ini direka untuk memberikan respons termal yang cepat serta memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer. Kita dapat mengekalkan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C, sehingga proses pembakaran berjalan dengan stabil dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.
Komponen-komponen yang digunakan memang sesuai untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Bahan-bahan yang digunakan juga tidak mengeluarkan gas berbahaya, dan laluan udara juga dirancang agar terhindar daripada kotoran yang boleh merosakkan wafer. Kuasa yang dihasilkan oleh lampu tersebut sangat stabil, dan ia dapat beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan output melebihi 5%.
Mengapa ini penting untuk proses pembuatan SiC
Proses pemprosesan wafer SiC memerlukan kawalan suhu yang tepat. Lampu ini membantu mengawal proses pembakaran fotoresist, sehingga aliran fotoresist, daya lekatnya, dan proses pengikatan molekul berlaku seperti yang sepatutnya. Dengan cara ini, variasi lebar garis pada permukaan wafer dapat dikurangkan, dan proses pembuatan menjadi lebih efisien.
Proses pembakaran berlaku dengan cepat, tanpa menyebabkan masalah yang tidak diinginkan. Selain itu, operasi yang bersih juga dapat mengurangkan pembaziran akibat adanya partikel kotoran. Dengan cara ini, kita dapat memperoleh hasil yang konsisten antara satu wafer dengan wafer yang lain—itu lah yang diperlukan dalam proses litografi.
Hal-hal yang perlu diperhatikan semasa pemasangan
Pemasangan lampu tersebut memerlukan penyelarasan yang tepat antara saiz lampu dan sambungan kabelnya dengan antaramuka alat pengeluaran. Penyelarasan ini sangat penting agar keseragaman suhu dapat dicapai. Jika tidak, keseragaman suhu tidak akan tercapai.
Kuasa yang dihasilkan oleh lampu tersebut sangat tinggi, jadi perlu ada pengurusan haba yang baik. Jika tidak, akan timbul titik panas di permukaan wafer. Selain itu, kalibrasi perlu dilakukan secara berkala agar suhu tetap stabil dan proses pengeluaran berjalan lancar.