리소그래피 공정에서는, 소프트 베이크 과정 중 웨이퍼 전체에 걸쳐 2°C 정도의 온도 차이가 발생하면, 치명적인 문제가 생길 수 있습니다. 이로 인해 노출 시간도 줄어들게 됩니다. 매번 공정을 진행할 때마다 온도 변화를 확인하는 것은 불가능합니다. 웨이퍼 탈기용 적외선 히터는 온도를 적절한 수준으로 유지해 주며, 이를 통해 공정의 일관성을 보장할 수 있습니다.
기술적으로 중요한 점 우리는 웨이퍼가 어떻게 반응하는지에 맞춰 빠르고 직접적인 방사열을 제공하는 단파 적외선을 사용합니다. 이를 통해 공정 동안 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지할 수 있으며, 반복된 공정에서도 일관된 온도를 유지할 수 있습니다. 이 장비는 클래스 1–100 등급의 청정실에서 작동하며, 입자를 전혀 생성하지 않고, 밀폐된 구조로 되어 있어 가스 배출도 최소화됩니다. 따라서 24/7 연속 가동해도 안정적인 성능을 보장하며, 예기치 않은 정지 상황도 없고, 유지보수도 계획대로 진행할 수 있습니다.
실제로 왜 효과적인가? 웨이퍼 건조, 탈기, 포토레지스트 소프트 베이크 및 하드 베이크 과정에서 적외선을 사용하면 가열 시간이 단축되고 설정된 온도를 정확하게 유지할 수 있습니다. 그 결과, 수율을 해치지 않으면서도 처리 속도가 향상됩니다. 베이크 과정이 반복 가능해지면, 포토레지스트의 화학적 특성도 예측 가능해져 잔여물や 결함이 줄어들고, CD 제어도 더욱 정확해집니다. 동일한 열 처리 장비를 사용하여 에너지를 조절함으로써, 전반적인 에너지 사용량을 줄이면서도 원하는 공정 결과를 얻을 수 있습니다.
제대로 작동시키기 위해 필요한 것들 적외선 스펙트럼과 파워 밀도를 기판 구조에 맞게 조정하는 것이 중요합니다. 히터는 잘 통합되어야 하지만, 장비의 인터페이스와 냉각 시스템도 챔버 및 배기 시스템의 제약 조건에 맞게 설계되어야 합니다. 또한, 주변의 광학 장비나 센서가 손상되지 않도록 열 관리와 차폐 처리도 필요합니다. 제대로 설정하면, 인증 과정과 일상적인 생산 과정에서도 안정적인 공정 성능을 유지할 수 있습니다.