На производственной линии пластина из СиК просто лежит там, ожидая процедуры обработки фотополимером, которая закрепляет форму поверхности пластинки....

На этапе литографии возникновение точек с высокой температурой в 2°C на поверхности пластины во время процедуры мягкой обработки приводит к изменению...

На производственном участке сдвиг температуры всего на полградуса во время отжига фоточувствительного слоя способен нарушить ширину линий и привести...

На производственной линии гибкая электроника не прощает термических колебаний. Легкая сушка, которая отклоняется даже немного, нарушает критические...

На производственном этаже обработка фоторезиста не допускает тепловых отклонений. Разброс температуры в 0,5°C по пластине во время мягкой или жёсткой...

На производственном участке быстро понимаешь, что даже отклонение профиля мягкого отжига на полградуса может изменить толщину фоторезиста и вызвать...