http://twintube-ir.com/uk/tags/processing/ Recent content in Processing on Twin Tube Infrared Heating Tech Hugo uk Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/uk/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/uk/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Лампа для нагріву пластин SiC під час їх обробки"></p> <p>На лінії обробки цей пластинчатий елемент з SiC просто лежить там, чекаючи на процедуру висушування фотополімеру, яка фіксує потрібний візерунок на поверхні пластини. Навіть незначна зміна температури може призвести до порушення контролю за критичними розмірами – якість продукції починає погіршуватися ще до того, як процес етчінгу взагалі почнеться.</p> <p><strong>Що насправді має значення</strong> Ми використовуємо лампу з короткохвильовим ІЧ-випромінюванням у кварцовому корпусі; це забезпечує швидку термічну реакцію та точний контроль за однорідністю поверхні пластини. Рівень однорідності на поверхні підтримується на рівні ±0,1°C, тож процес висушування залишається стабільним у кожній партії продукції.</p> http://twintube-ir.com/uk/posts/optical-wafer-processing-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800 http://twintube-ir.com/uk/posts/optical-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Оптичний нагрівач для обробки пластин"></p> <p>На виробничій ділянці обробка фоторезисту не терпить теплових відхилень. Розкид температури в 0,5°C по пластині під час м’якого або твердого випікання проявляється як варіація ширини лінії, а одна подія з частинкою може зіпсувати багато виробів. Потрібен нагрівач для обробки пластин, який працює як сталий технологічний параметр, а не як ще одна змінна.</p> <p>Насправді важливо забезпечити повторюване нагрівання без конфлікту з чистою кімнатою. Ми побудували оптичний нагрівач для обробки пластин на базі короткохвильового інфрачервоного випромінювання (SWIR) та кварцового термічного архітектурного рішення, і підтвердили рівномірність температури на рівні пластини ±0,1°C для 300 мм пластин. Пристрій працює в чистих кімнатах класу 1–100 без генерації частинок, що підтверджено на рівні нижче 0,1 μm. Профілі випікання фоторезисту залишаються стабільними від циклу до циклу, а в межах виробничих змін нагрівач витримує безперервну роботу 24/7 без незапланованих зупинок.</p>