<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Обработка on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/ru/tags/%D0%BE%D0%B1%D1%80%D0%B0%D0%B1%D0%BE%D1%82%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Обработка on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/ru/tags/%D0%BE%D0%B1%D1%80%D0%B0%D0%B1%D0%BE%D1%82%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа нагревателя для обработки кристаллов SiC</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ru/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ru/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Лампа нагревателя для обработки кристаллов SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной линии пластина из СиК просто лежит там, ожидая процедуры обработки фотополимером, которая закрепляет форму поверхности пластинки. Даже незначительное изменение температуры может привести к сбоям в контроле размеров поверхности пластинки — качество продукции ухудшается ещё до того, как происходит процесс обработки.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно имеет значение&lt;/strong&gt;&#xA;Мы используем галогеновую лампу с короткими волнами в инфракрасном диапазоне, размещенную в кварцевом корпусе. Это обеспечивает быстрый ответ температуры и высокую однородность температуры на всей поверхности пластинки. Уровень точности контроля температуры составляет ±0,1°C, что позволяет сохранять стабильность параметров процесса при каждой партии продукции.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Оптический нагреватель для обработки пластин</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ru/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ru/posts/optical-wafer-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Оптический нагреватель для обработки пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственном этаже обработка фоторезиста не допускает тепловых отклонений. Разброс температуры в 0,5°C по пластине во время мягкой или жёсткой запеканки проявляется как изменение ширины линий, а одна частица может привести к значительным потерям. Необходим нагреватель для обработки пластин, который функционирует как фиксированная технологическая константа, а не как ещё один переменный параметр.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ключевым фактором является повторяемая подача тепла без сопротивления со стороны чистой комнаты. Мы построили наш оптический нагреватель для обработки пластин на базе коротковолнового инфракрасного излучения (SWIR) и кварцевой усиленной термической архитектуры, и подтвердили равномерность по пластине с точностью ±0,1°C на 300 мм пластинах. Он работает в чистых помещениях класса 1–100 с нулевой генерацией частиц, проверенной на порогах ниже 0,1 мкм. Профили запекания фоторезиста остаются стабильными от цикла к циклу, а в производственных условиях устройство выдерживает круглосуточную работу 24/7 без незапланированных простоев.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
