Wafel on Twin Tube Infrared Heating Tech

Temperatuursensor voor wafertools

Tue, 28 Jul 2026 04:44:18 +0800

Het correct gebruiken van infraroodverwarming en sensoren in fabrieken voor halfgeleiders

Er is momenteel veel druk om半导体apparaten milieuvriendelijker te maken. Daarom werken we steeds minder met traditionele resistieve verwarmingsmethoden en kiezen we juist voor kortegolf-infraroodverwarming.

Het grote voordeel hiervan is dat de hitte rechtstreeks op het oppervlak van de chip wordt gericht. Er hoeft geen hele ruimte meer te worden verwarmd om de chip op de juiste temperatuur te brengen. Dit leidt tot minder verspilde energie en lagere energiekosten.

HEATER VOOR HET DROGEN VAN MEMS SENORSCHILDES

Fri, 24 Jul 2026 11:17:01 +0800

Houd je MEMS-wafers schoon tijdens het drogen
Als je werkt in een schone ruimte van klasse 100, weet je vast wel hoe vervelend het is wanneer er gassen vrijkomen of wanneer er ongewenste deeltjes op de wafers terechtkomen. Dit gebeurt meestal tijdens het droogproces. De meeste standaardverwarmers zijn hiervoor niet geschikt: ze scheiden vaak microscopisch kleine deeltjes af of geven vluchtige organische verbindingen (VOC’s) af zodra ze worden verhit.

Daarom gebruiken weIR-lampen gemaakt van hoogzuiver synthetisch kwarts.
Waarom kwarts?
Het heeft te maken met het materiaal zelf. We gebruiken gesmolten silica met bijna geen onzuiverheden, zodat je je geen zorgen hoeft te maken over metallische contaminatie die je MEMS-sensoren kan beschadigen. In tegenstelling tot die verwarmers met een metaalachtige buitenlaag, fungeren deze kwartstuibjes als een niet-reactieve barrière. De IR-straling gaat recht door de vloeistoflaag op de wafer heen, waardoor deze snel kan drogen, zonder dat de oppervlakte wordt aangetast. Geen contact betekent geen krassen en geen cross-contaminatie. Eenvoudig.

Energiezuinige waferverwarmer

Thu, 23 Jul 2026 11:33:37 +0800

Hoe je je wafers schoon houdt: de waarheid over verwarming

Als je een cleanroom van klasse 100 hebt, weet je vast al dat luchtfilteren maar de helft van het werk is. Het echte probleem zijn de stoffen die je niet kunt zien. Gassen die vrijkomen en kleine deeltjes die afkomstig zijn van de verwarmingselementen, kunnen alsnog schade toebrengen aan de wafers, nog voordat je zelfs maar in de gaten hebt dat er een probleem is.

Daarom gebruiken we voor onze IR-verwarmingsapparaten hoogzuiver synthetisch kwarts. Dit voorkomt dat er contaminatie optreedt, nog voordat dit kan gebeuren.

Reflector voor wafer uitdroogingslamp

Mon, 20 Jul 2026 11:09:22 +0800

Het juiste niveau van hitte in uw fabriek

Als u ooit te maken hebt gehad met het drogen van wafer’s, weet u wat voor nachtmerrie het kan zijn wanneer de wafer’s vervormen of er ongelijkmatig chemische stoffen op worden afgezet. Meestal komt dit door één ding: de hitte bereikt de oppervlakken niet gelijkmatig.

Daarom maken we gebruik van IR-systemen met hoge reflectiecapaciteit. In plaats van dat de hitte overal heen gaat, gebruiken we deze reflectoren om de kortegolfradiatie precies daarheen te sturen waar het nodig is. In een moderne fabriek zijn dit geen gewone spiegels; ze zorgen er namelijk voor dat de verwerkingstijd kort blijft en de energiekosten niet te hoog worden.

Veiligheidsafstand voor waferverwarming

Mon, 13 Jul 2026 14:32:48 +0800

Het juiste temperatuurniveau bereiken voor siliciumwafers

Wanneer je siliciumwafers verwarmt, is elke watt van groot belang. Het gaat niet alleen om het verhogen van de temperatuur – het is belangrijk dat de energie daadwerkelijk op de wafer terechtkomt, in plaats van dat de muren van de kamer worden opgewarmd.

Daar komt de goudcoating van pas.

Waarom goud?

Standaard kwartslampen geven energie in alle richtingen af. In een typische seting wordt dus ongeveer de helft van de energie verspild. We lossen dit op door een dunne laag hoogzuiver goud op de reflector aan te brengen. Hierdoor wordt 98% van de infrarode energie weer teruggestuurd. In plaats van een verspreide straling, krijg je een geconcentreerde straal die rechtstreeks op de wafer terechtkomt. Je krijgt dus veel meer warmte op de plekken waar het nodig is, zonder dat je meer energie uit de lampen hoeft te halen. Het is gewoon efficiënter.

Precisiezelfluitendingsensor voor wafer

Sat, 11 Jul 2026 08:32:52 +0800

Wanneer je een Class 100-puurheidskamer hebt, is ‘bijna schoon’ niet voldoende. Eén klein stofdeeltje van een verwarmingselement – iets wat je zelfs niet kunt zien – kan al zorgen voor het feit dat al je wafers onbruikbaar worden. Het is een nachtmerrie.

Daarom hebben we gestopt met het gebruik van gewoon glas voor onze infraroodlampen. Gewoon glas bevat onzuiverheden die de hitte niet kunnen verdragen; deze onzuiverheden breken af en veroorzaken problemen. In plaats daarvan gebruiken we agoraat met een hoge zuiverheid. Dit materiaal blijft stabiel en schoon.

Waferdegas infraroodverwarmer

Sat, 20 Jun 2026 05:27:04 +0800

Op het gebied van lithografie kan een warmteverschil van 2°C op het wafer tijdens het zachte bakproces leiden tot veranderingen in de cruciale afmetingen van het wafer. Dit kan ook urenlang blootstelling aan straling veroorzaken. Je kunt niet bij elke batch rekening houden met deze thermische afwijkingen. De infraroodverwarmer zorgt er juist voor dat de temperatuur op het juiste niveau blijft – op het niveau van het resistmateriaal, en niet door procesvariaties.

Wat technisch gezien belangrijk is:
We gebruiken kortegolflengte-infraroodstraling voor een snelle en directe verwarming. Deze methode is aangepast aan de manier waarop het wafer zelf reageert. Hierdoor wordt er een temperatuurnormale verdeling bereikt van ±0,1°C over het hele procesgebied. De temperatuur blijft consistent, zodat de resultaten steeds binnen de vereisten vallen. De apparatuur kan worden gebruikt in cleanrooms van klasse 1–100. Er worden geen deeltjes geproduceerd, en de apparatuur heeft een gesloten ontwerp met minimale uitstoot van gassen. Hierdoor krijg je een stabiele prestatie over 24/7 – zonder onverwachte stilstanden, en met onderhoudsintervallen die gemakkelijk kunnen worden gepland.

Flexibele elektronische waferverwarmer

Sat, 06 Jun 2026 03:45:08 +0800

On the line vergeven flexibele elektronica wafers geen thermische schommelingen. Een soft bake die ook maar een beetje afwijkt, verstoort de kritische afmetingen in de volgende lithografiestappen. Een hard bake die heet wordt gedraaid kan dunne-dialagenlagen scheuren of stressmigratie veroorzaken. Het gevolg is afval, nabewerking en opbrengstverlies dat zich over het gehele batch ophoopt.
Wat er onder de motorkap telt
We hebben de heater gebouwd rondom kortegolf-infrarood, zodat je submillimeter thermische uniformiteit over het substraat krijgt. Tijdens de photoresist-bake houdt het wafer-level temperatuurbesturing op ±0,1°C, en de herhaalbaarheid blijft binnen het thermisch budget van delicate polyimide- en ultra-dunne carrierstapels. Infrarode energie dringt rechtstreeks door in de photoresist, waardoor thermische vertragingen verminderen en je snel kunt opschakelen zonder overshoot. Het platform is geschikt voor cleanroom Class 1–100, met materialen en oppervlakken gekozen om de deeltjesconcentraties laag te houden. En “nul deeltjesgeneratie” is geen slogan—we meten dit aan de hand van de metrologiedrempels binnen het echte procesvenster.
Dit is de reden dat het in flexibele elektronica blijft hangen: je hebt warmte nodig in de resist, niet die naar het gereedschap lekt. Deze heater vergrendelt het bakprofiel voor zowel soft bake als hard bake, zodat lijnbreedtecontrole en hechting consistent blijven wafer na wafer. Strakke uniformiteit voorkomt edge-bead afwijkingen en vermindert de noodzaak voor extra belichtingsnabehandelingen. Je verbruikt minder energie omdat de infraroodbron alleen het doelgebied verwarmt, niet de omgeving in de kamer. Betrouwbaarheid komt door componenten die geschikt zijn voor 24/7 werking, met gedocumenteerde uptime in productie waar ongeplande stilstand direct betekent dat batches missen.
Een paar praktische opmerkingen.
De heater sluit aan op standaard interfaces voor halfgeleiderapparatuur, maar heeft een eigen aparte elektrische kring en schone droge luchttoevoer nodig om infraroodoutput en koeling stabiel te houden. Plan een korte inbedrijfstellingsperiode om het thermisch profiel af te stemmen op je resiststapeling en substraatdikte. Eenmaal gekalibreerd houdt het de ingestelde waarde met minimale afwijking, zelfs wanneer je carriers verwisselt.