http://twintube-ir.com/nl/tags/verwerking/ Recent content in Verwerking on Twin Tube Infrared Heating Tech Hugo nl Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/nl/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/nl/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Heaterlamp voor SiC wafelverwerking"></p> <p>Op de productielijn ligt die SiC-wafer gewoon te wachten, tot de fotoresist wordt verhit, zodat het patroon vastligt. Zelfs een kleine temperatuurswisseling kan er toe leiden dat de controle over de dimensies van de wafer niet meer goed werkt. Hierdoor kan de kwaliteit van de producten al eerder verslechteren, nog voordat de etcher zelfs maar in actie komt.</p> <p><strong>Wat er echt toe doet</strong> We gebruiken een halogeenlamp met kortegolflengte NIR-licht, geplaatst in een kwartsomhulsel. Deze lamp zorgt voor een snelle thermische respons en een constante temperatuur op het oppervlak van de wafer. We houden de temperatuur op ±0,1°C, zodat de resultaten consistent blijven, ongeacht hoeveel keer de wafer wordt verhit.</p> http://twintube-ir.com/nl/posts/optical-wafer-processing-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800 http://twintube-ir.com/nl/posts/optical-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Optische waferverwerkingsverwarming"></p> <p>Op de productievloer vergeven photoresist-processen geen thermische afwijkingen. Een temperatuurverschil van 0,5°C over de wafer tijdens soft bake of hard bake resulteert in lijnbreedtevariaties, en een enkele deeltje kan veel schade aanrichten. U heeft een waferverhitter nodig die functioneert als een vaste procesconstante, niet als een extra variabele.</p> <p>Wat werkelijk telt, is herhaalbare warmteafgifte zonder tegenwerking van de cleanroom. We hebben onze optische waferverhitter gebouwd rondom kortegolf-infrarood (SWIR) en een kwartsversterkte thermische architectuur, en we hebben ±0,1°C wafer-niveau <a href="https://o-yate.com">uniformiteit</a> geverifieerd op 300 mm wafers. Het apparaat draait in Class 1–100 cleanrooms, met nul deeltjesproductie bevestigd tot onder de 0,1 μm drempel. Run-to-run photoresist bake-profielen blijven consistent, en binnen productievensters kan het 24/7 draaien zonder ongeplande stilstand.</p>