<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/nl/tags/sic/</link>
		<description>Recent content in SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/nl/tags/sic/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Heaterlamp voor SiC wafelverwerking</title>
				<link>http://twintube-ir.com/nl/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/nl/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Heaterlamp voor SiC wafelverwerking&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn ligt die SiC-wafer gewoon te wachten, tot de fotoresist wordt verhit, zodat het patroon vastligt. Zelfs een kleine temperatuurswisseling kan er toe leiden dat de controle over de dimensies van de wafer niet meer goed werkt. Hierdoor kan de kwaliteit van de producten al eerder verslechteren, nog voordat de etcher zelfs maar in actie komt.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat er echt toe doet&lt;/strong&gt;&#xA;We gebruiken een halogeenlamp met kortegolflengte NIR-licht, geplaatst in een kwartsomhulsel. Deze lamp zorgt voor een snelle thermische respons en een constante temperatuur op het oppervlak van de wafer. We houden de temperatuur op ±0,1°C, zodat de resultaten consistent blijven, ongeacht hoeveel keer de wafer wordt verhit.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
