Waferdegas infraroodverwarmer

Sat, 20 Jun 2026 05:27:04 +0800

Op het gebied van lithografie kan een warmteverschil van 2°C op het wafer tijdens het zachte bakproces leiden tot veranderingen in de cruciale afmetingen van het wafer. Dit kan ook urenlang blootstelling aan straling veroorzaken. Je kunt niet bij elke batch rekening houden met deze thermische afwijkingen. De infraroodverwarmer zorgt er juist voor dat de temperatuur op het juiste niveau blijft – op het niveau van het resistmateriaal, en niet door procesvariaties.

Wat technisch gezien belangrijk is:
We gebruiken kortegolflengte-infraroodstraling voor een snelle en directe verwarming. Deze methode is aangepast aan de manier waarop het wafer zelf reageert. Hierdoor wordt er een temperatuurnormale verdeling bereikt van ±0,1°C over het hele procesgebied. De temperatuur blijft consistent, zodat de resultaten steeds binnen de vereisten vallen. De apparatuur kan worden gebruikt in cleanrooms van klasse 1–100. Er worden geen deeltjes geproduceerd, en de apparatuur heeft een gesloten ontwerp met minimale uitstoot van gassen. Hierdoor krijg je een stabiele prestatie over 24/7 – zonder onverwachte stilstanden, en met onderhoudsintervallen die gemakkelijk kunnen worden gepland.

Ontgassen on Twin Tube Infrared Heating Tech

Waferdegas infraroodverwarmer