<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Lucht on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/nl/tags/lucht/</link>
		<description>Recent content in Lucht on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 09 Jun 2026 03:21:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/nl/tags/lucht/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Infraroodlamp met luchtmesunit</title>
				<link>http://twintube-ir.com/nl/posts/infrared-lamp-with-air-knife-unit/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 03:21:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/nl/posts/infrared-lamp-with-air-knife-unit/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Infraroodlamp met luchtmesunit&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productievloer is photoresist-bakken geen luxe maar je thermisch budget, simpel en duidelijk. Een &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;afwijking&lt;/a&gt; van 1°C kan kritieke dimensies verschuiven, en één deeltje uit een hete zone kan een groot aantal goede chips beschadigen. Daarom hebben we een infraroodlamp ontwikkeld met een air knife-unit die deze realiteiten als uitgangspunt neemt, niet als uitzondering.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat er onder de motorkap telt&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;We combineren kortegolf-infraroodstralers met een luchtmes met hoge snelheid. De stralers reageren binnen milliseconden, wat een strakke gesloten-lusregeling mogelijk maakt en een uniformiteit op wafer-niveau geeft van ±0,1°C over het bakoppervlak. Het luchtmes doorbreekt de grenslaag en verwijdert microverontreinigingen, terwijl het afzuigtraject is geïsoleerd zodat het aantal deeltjes stabiel blijft in Class 1–100 omgevingen. De vermogensdichtheid is instelbaar voor wafers van 150 mm tot 300 mm, en het thermische profiel is batch na batch reproduceerbaar. De output blijft binnen 2% over meer dan 5.000 uur, en de unit is ontworpen om te passen binnen de interface en het voetafdruk van gangbare halfgeleiderapparatuur.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
