<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Sokongan on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/ms/tags/sokongan/</link>
		<description>Recent content in Sokongan on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 20:02:46 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/ms/tags/sokongan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sokongan teknikal untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ms/posts/technical-support-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:02:46 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ms/posts/technical-support-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Sokongan teknikal untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;On the fab floor, anda akan cepat belajar bahawa profil soft bake yang berubah walaupun setengah darjah boleh mengubah ketebalan photoresist dan menyebabkan bias dimensi kritikal di seluruh wafer. Ketidakseeragaman hard bake menjadikan keadaan lebih buruk, yang kelihatan sebagai sisa selepas develop atau residu selepas pemindahan corak. Sokongan pemanasan wafer perlu lebih daripada sekadar haba—ia perlu memberikan disiplin terma sebenar tepat di tempat proses berlaku.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di bawah hud&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami membina modul pemanasan wafer berdasarkan sumber NIR dan inframerah gelombang sederhana, yang diselaraskan dengan julat penyerap photoresist supaya anda mendapat pengerasan yang cepat dan terarah pada permukaan tanpa lebihan haba. Kekalkan keseragaman terma di seluruh wafer pada ±0.1°C, dan pastikan kebolehulangan ketat supaya profil bake yang sama dapat dicapai dari lot ke lot, dan shift ke shift. Keserasian bilik bersih telah dimasukkan dalam reka bentuk: bahan yang mematuhi kelas 1–100, penghasilan zarah sifar semasa peningkatan dan keadaan stabil, serta penghalaan ekzos yang menarik gas keluar jauh dari alat bersebelahan. Sistem beroperasi 24/7 tanpa downtime yang tidak dirancang dalam jangka masa pengeluaran, dan kami mengekalkan bajet terma ketat untuk melindungi filem asas sebelum proses etsa.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
