<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/ms/tags/sic/</link>
		<description>Recent content in SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/ms/tags/sic/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk pemprosesan wafer SiC</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ms/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ms/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk pemprosesan wafer SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lini pengeluaran, wafer SiC itu hanya berada di situ, menunggu proses pembakaran fotoresist yang bertujuan untuk “mengunci” pola pada permukaan wafer tersebut. Walaupun &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;perubahan&lt;/a&gt; suhu sekecil sedikit pun boleh menyebabkan ketidakstabilan dalam kawalan dimensi wafer tersebut. Hasil pengeluaran pun akan merosot sebelum proses etching pun bermula.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang sebenarnya penting&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kita menggunakan lampu pemanas jenis NIR berfrekuensi tinggi yang diletakkan di dalam selubung kuarsa. Lampu ini direka untuk memberikan respons termal yang cepat serta memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer. Kita dapat mengekalkan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C, sehingga proses pembakaran berjalan dengan stabil dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
