<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pemprosesan on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/ms/tags/pemprosesan/</link>
		<description>Recent content in Pemprosesan on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/ms/tags/pemprosesan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk pemprosesan wafer SiC</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ms/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ms/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk pemprosesan wafer SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lini pengeluaran, wafer SiC itu hanya berada di situ, menunggu proses pembakaran fotoresist yang bertujuan untuk “mengunci” pola pada permukaan wafer tersebut. Walaupun &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;perubahan&lt;/a&gt; suhu sekecil sedikit pun boleh menyebabkan ketidakstabilan dalam kawalan dimensi wafer tersebut. Hasil pengeluaran pun akan merosot sebelum proses etching pun bermula.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang sebenarnya penting&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kita menggunakan lampu pemanas jenis NIR berfrekuensi tinggi yang diletakkan di dalam selubung kuarsa. Lampu ini direka untuk memberikan respons termal yang cepat serta memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer. Kita dapat mengekalkan ketepatan suhu pada tahap ±0.1°C, sehingga proses pembakaran berjalan dengan stabil dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Pemanas pemprosesan wafer optik</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ms/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ms/posts/optical-wafer-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Pemanas pemprosesan wafer optik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;On the fab floor, pemprosesan photoresist tidak memaafkan pergeseran terma. Sebaran suhu panas/sejuk 0.5°C pada wafer semasa soft bake atau hard bake akan menunjukkan variasi lebar garisan, dan satu kejadian zarah boleh merosakkan banyak. Anda memerlukan pemanas pemprosesan wafer yang berfungsi seperti pemalar proses tetap, bukan satu lagi pembolehubah.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Apa yang benar-benar penting ialah penghantaran haba yang boleh diulang, tanpa melawan bilik bersih. Kami membina pemanas pemprosesan wafer optik kami berdasarkan inframerah gelombang &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;pendek&lt;/a&gt; (SWIR) dan seni bina &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;termal&lt;/a&gt; berkuarsa dipertingkat, dan kami telah mengesahkan keseragaman tahap wafer ±0.1°C pada wafer 300 mm. Ia beroperasi dalam bilik bersih Kelas 1–100, dengan penghasilan zarah sifar yang disahkan sehingga ambang sub-0.1 μm. Profil photoresist bake dari larian ke larian kekal konsisten, dan dalam tempoh pengeluaran ia menahan operasi 24/7 tanpa downtime tidak dirancang.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
