http://twintube-ir.com/ko/tags/%EC%B2%98%EB%A6%AC/ Recent content in 처리 on Twin Tube Infrared Heating Tech Hugo ko Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/ko/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/ko/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="SiC 웨이퍼 가공용 히터 램프"></p> <p>생산 라인에서는 그 SiC 웨이퍼가 그저 그 자리에 있으면서, 패턴을 고정시켜주는 포토레지스트 처리를 기다리고 있습니다. 온도가 아주 약간만 변해도, 정밀한 치수 제어가 어려워집니다. 에칭 공정이 시작되기 전부터 생산 효율이 저하됩니다.</p> http://twintube-ir.com/ko/posts/optical-wafer-processing-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800 http://twintube-ir.com/ko/posts/optical-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="광학 웨이퍼 처리 히터"></p> <p>Fab <a href="https://o-yate.net">floor</a>에서 포토레지스트 공정은 열 편차를 용납하지 않는다. 소프트 베이크나 하드 베이크 중 웨이퍼 전반에 걸쳐 0.5°C의 온도 편차가 발생하면 라인폭 변화로 나타나며, 단 한 번의 입자 발생으로도 다수의 제품이 불량이 될 수 있다. 따라서 웨이퍼 공정 히터는 변수가 아닌 고정된 공정 상수처럼 작동해야 한다.</p>