<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>와이퍼 on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/ko/tags/%EC%99%80%EC%9D%B4%ED%8D%BC/</link>
		<description>Recent content in 와이퍼 on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ko</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/ko/tags/%EC%99%80%EC%9D%B4%ED%8D%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>SiC 웨이퍼 가공용 히터 램프</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ko/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ko/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;SiC 웨이퍼 가공용 히터 램프&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;생산 라인에서는 그 SiC 웨이퍼가 그저 그 자리에 있으면서, 패턴을 고정시켜주는 포토레지스트 처리를 기다리고 있습니다. 온도가 아주 약간만 변해도, 정밀한 치수 제어가 어려워집니다. 에칭 공정이 시작되기 전부터 생산 효율이 저하됩니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>웨이퍼 탈가스용 적외선 히터</title>
				<link>http://twintube-ir.com/ko/posts/wafer-degas-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:27:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/ko/posts/wafer-degas-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 탈가스용 적외선 히터&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;리소그래피 공정에서는, 소프트 베이크 과정 중 웨이퍼 전체에 걸쳐 2°C 정도의 온도 차이가 발생하면, 치명적인 문제가 생길 수 있습니다. 이로 인해 노출 시간도 줄어들게 됩니다. 매번 공정을 진행할 때마다 온도 변화를 확인하는 것은 불가능합니다. 웨이퍼 탈기용 적외선 히터는 온도를 적절한 수준으로 유지해 주며, 이를 통해 공정의 일관성을 보장할 수 있습니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
