http://twintube-ir.com/ja/tags/%E5%87%A6%E7%90%86/ Recent content in 処理 on Twin Tube Infrared Heating Tech Hugo ja Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/ja/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/ja/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="SiCウェーハ加工用ヒーターランプ"></p> <p>ライン上では、そのSiCウェーハはそこに静かに置かれており、パターンを固定するためのフォトレジストの焼成を待っているだけです。わずか数分の1度の温度変動であっても、重要な寸法制御が乱れてしまい、エッチャーが働く前から歩留まりが低下してしまいます。</p> http://twintube-ir.com/ja/posts/optical-wafer-processing-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800 http://twintube-ir.com/ja/posts/optical-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="光学ウェーハ処理ヒーター"></p> <h1 id="ファブフロアではフォトレジスト処理において熱ドリフトは許されないソフトベイクやハードベイク中にウェハ全体で05の温度差があるとその差がライン幅のばらつきとして現れひとつのパーティクルによる異物混入が多くの不良を引き起こす可能性がある必要なのは変動要因ではなく固定されたプロセス定数のように動作するウェハ処理用ヒーターだ">ファブフロアでは、フォトレジスト処理において熱ドリフトは許されない。ソフトベイクやハードベイク中にウェハ全体で0.5℃の温度差があると、その差がライン幅のばらつきとして現れ、ひとつのパーティクルによる異物混入が多くの不良を引き起こす可能性がある。必要なのは、変動要因ではなく、<a href="https://o-yate.com">固定</a>されたプロセス定数のように動作するウェハ処理用ヒーターだ。</h1> <p>重要なのは、クリーンルーム環境と干渉せずに再現性のある熱供給を実現することだ。当社は短波長赤外線（SWIR）と石英強化型熱設計を基盤とした光学的ウェハ処理用ヒーターを開発し、300 mmウェハにおいて±0.1℃のウェハレベルの均一性を検証している。Class 1–100のクリーンルーム内で動作し、0.1 μm以下の閾値までパーティクル発生ゼロを実証済みだ。フォトレジストのベイクプロファイルはランツーランで安定し、生産稼働時間帯には24時間365日連続運転時でも予期せぬダウンタイムは発生していない。</p>