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		<title>Supporto on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
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		<description>Recent content in Supporto on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
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				<title>Supporto tecnico per il riscaldamento dei wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Supporto tecnico per il riscaldamento dei wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sulla linea di produzione, si impara rapidamente che una deriva di appena mezzo grado nel profilo di soft bake può modificare lo spessore del fotoresist e causare uno scostamento nelle dimensioni critiche su tutto il wafer. L’eterogeneità nel hard bake peggiora la situazione, manifestandosi come residui di scum dopo lo sviluppo o residui di incisione dopo il trasferimento del pattern. Il supporto di riscaldamento del wafer deve essere più di un semplice calore: deve garantire una rigorosa disciplina termica esattamente dove avviene il processo.&lt;/p&gt;</description>
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