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		<title>SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
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		<description>Recent content in SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
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				<title>Lampada riscaldante per la lavorazione dei wafer in SiC</title>
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				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampada riscaldante per la lavorazione dei wafer in SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sul banco di lavoro, quel wafer in SiC rimane lì, in attesa che avvenga il processo di essiccazione del fotorestringente, necessario per fissare la struttura desiderata sul wafer stesso. Anche una piccolissima variazione di temperatura può causare problemi: il controllo delle dimensioni critiche del wafer ne risente, e la qualità del prodotto peggiora ancora prima che lo strumento di incisione possa intervenire.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Quello che conta davvero&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Utilizziamo una lampada a riscaldamento a onde corte NIR, alloggiata all’interno di un rivestimento in quarzo; questa lampada permette una risposta termica rapida e una uniformità elevata su tutto il superficie del wafer. Riusciamo a mantenere una precisione di ±0,1°C, così da garantire stabilità nei processi di essiccazione, lotto dopo lotto.&lt;/p&gt;</description>
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