Riscaldatore per la lavorazione ottica dei wafer

Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800

On the fab floor, il processo del photoresist non tollera derive termiche. Una variazione di temperatura hot/cold di 0,5°C sul wafer durante il soft bake o hard bake si traduce in una variazione della larghezza della linea, e un singolo evento particellare può compromettere molti pezzi. Serve un riscaldatore per il processo wafer che si comporti come una costante di processo fissa, non come una variabile aggiuntiva.

Ciò che conta realmente è una distribuzione del calore ripetibile, senza interferire con la cleanroom. Abbiamo progettato il nostro riscaldatore ottico per il processo wafer basandolo su infrarossi a onde corte (SWIR) e su un’architettura termica potenziata al quarzo, e abbiamo verificato una uniformità a livello wafer di ±0,1°C su wafer da 300 mm. Funziona in cleanroom Class 1–100, con generazione particellare nulla verificata fino a soglie inferiori a 0,1 μm. I profili di bake del photoresist rimangono costanti da ciclo a ciclo e, durante le finestre di produzione, supporta operazioni 24/7 senza fermi non pianificati.

Ottico on Twin Tube Infrared Heating Tech

Riscaldatore per la lavorazione ottica dei wafer