<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Elaborazione on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/it/tags/elaborazione/</link>
		<description>Recent content in Elaborazione on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/it/tags/elaborazione/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampada riscaldante per la lavorazione dei wafer in SiC</title>
				<link>http://twintube-ir.com/it/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/it/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampada riscaldante per la lavorazione dei wafer in SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sul banco di lavoro, quel wafer in SiC rimane lì, in attesa che avvenga il processo di essiccazione del fotorestringente, necessario per fissare la struttura desiderata sul wafer stesso. Anche una piccolissima variazione di temperatura può causare problemi: il controllo delle dimensioni critiche del wafer ne risente, e la qualità del prodotto peggiora ancora prima che lo strumento di incisione possa intervenire.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Quello che conta davvero&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Utilizziamo una lampada a riscaldamento a onde corte NIR, alloggiata all’interno di un rivestimento in quarzo; questa lampada permette una risposta termica rapida e una uniformità elevata su tutto il superficie del wafer. Riusciamo a mantenere una precisione di ±0,1°C, così da garantire stabilità nei processi di essiccazione, lotto dopo lotto.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Riscaldatore per la lavorazione ottica dei wafer</title>
				<link>http://twintube-ir.com/it/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/it/posts/optical-wafer-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per la lavorazione ottica dei wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;On the fab &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;floor&lt;/a&gt;, il processo del photoresist non tollera derive termiche. Una variazione di temperatura hot/cold di 0,5°C sul wafer durante il soft bake o hard bake si &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;traduce&lt;/a&gt; in una variazione della larghezza della linea, e un singolo evento particellare può compromettere molti pezzi. Serve un riscaldatore per il processo wafer che si comporti come una costante di processo fissa, non come una variabile aggiuntiva.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ciò che conta realmente è una distribuzione del calore ripetibile, senza interferire con la cleanroom. Abbiamo progettato il nostro riscaldatore ottico per il processo wafer basandolo su infrarossi a onde corte (SWIR) e su un’architettura termica potenziata al quarzo, e abbiamo verificato una uniformità a livello wafer di ±0,1°C su wafer da 300 mm. Funziona in cleanroom Class 1–100, con generazione particellare nulla verificata fino a soglie inferiori a 0,1 μm. I profili di bake del photoresist rimangono costanti da ciclo a ciclo e, durante le finestre di produzione, supporta operazioni 24/7 senza fermi non pianificati.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
