Produttore cinese di essiccatori per wafer

Mon, 08 Jun 2026 04:52:10 +0800

Sulla linea di produzione, uno scostamento di mezzo grado durante la fase di cottura del fotoresist è sufficiente per alterare le larghezze delle linee e provocare una diminuzione della resa. La temperatura non può essere trattata come un gioco di ipotesi: è necessario un controllo termico che si comporti come un vero parametro di processo, non come un obiettivo variabile.

Cosa conta, dal punto di vista tecnico
Abbiamo progettato l’essiccatore wafer intorno alla ripetibilità: uniformità a livello wafer entro ±0,1°C, stabilità del setpoint mantenuta durante soft bake e hard bake, e velocità di rampa che rispettano il budget termico del fotoresist. Il sistema di riscaldatori utilizza elementi stabilizzati al quarzo con controllo a ciclo chiuso, evitando overshoot ad ogni apertura e chiusura dello sportello.

Cina on Twin Tube Infrared Heating Tech

Produttore cinese di essiccatori per wafer