<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/id/tags/sic/</link>
		<description>Recent content in SiC on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/id/tags/sic/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk proses pengolahan wafer SiC</title>
				<link>http://twintube-ir.com/id/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/id/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk proses pengolahan wafer SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di dalam proses produksi, wafer SiC tersebut hanya berdiri diam di sana, menunggu proses pemanasan fotoresist agar polanya tetap stabil. Sedikit saja perubahan suhu, maka kontrol dimensi kritis wafer akan terganggu—hasil produksi pun akan menurun, bahkan sebelum proses etching dimulai.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang benar-benar penting?&lt;/strong&gt;&#xA;Kami menggunakan lampu pemanas berupa lampu halogen berfrekuensi gelombang pendek yang diletakkan di dalam kemasan kuarsa. Lampu ini dirancang untuk memberikan respons termal yang cepat dan memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer. Kita dapat &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;menjaga&lt;/a&gt; tingkat repetibilitas suhu hingga ±0,1°C, sehingga proses pemanasan tetap stabil dari satu batch ke batch berikutnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
