<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Degas on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/id/tags/degas/</link>
		<description>Recent content in Degas on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 05:27:05 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/id/tags/degas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah untuk degasifikasi wafer</title>
				<link>http://twintube-ir.com/id/posts/wafer-degas-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:27:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/id/posts/wafer-degas-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah untuk degasifikasi wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di proses litografi, adanya titik panas sebesar 2°C pada permukaan wafer selama proses pemanasan akan mengubah dimensi-komponen kritis pada wafer tersebut, serta memperpendek waktu eksposur yang diperlukan. Anda tidak bisa terus-menerus mencoba mengatasi masalah perubahan suhu setiap kali proses berlangsung. Pemanas inframerah yang digunakan untuk proses dehidrasi wafer mampu menjaga suhu tetap stabil, sehingga tidak ada variasi suhu yang signifikan. Pemanas ini bekerja dalam ruang bersih kelas 1–100, tidak menghasilkan partikel sama sekali, dan memiliki desain yang tertutup sehingga minim emisi gas. Dengan demikian, hasil produksi akan tetap stabil selama 24/7, tanpa adanya gangguan atau masa pemeliharaan yang tidak terduga.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
