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		<title>Flexible on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
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				<title>Chauffage de wafer pour électronique flexible</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Chauffage de wafer pour électronique flexible&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne, les wafers d’électronique flexible ne supportent pas les excursions thermiques. Un prébake léger qui dérive même légèrement modifie les &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;dimensions&lt;/a&gt; critiques aux étapes suivantes de lithographie. Un cuisson durcie qui dépasse la température requise peut fissurer les couches de films minces ou déclencher une migration de contraintes. Les conséquences sont des rebuts, des retouches et une perte de rendement qui s’accumulent sur l’ensemble du lot.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui compte sous le capot&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Nous avons conçu le chauffage autour de l’infrarouge à ondes courtes, ce qui assure une uniformité thermique submillimétrique à travers le substrat. Pendant la cuisson du photoresist, il maintient un contrôle de température au niveau du wafer à ±0,1°C, et la répétabilité reste dans la marge thermique requise par les empilements délicats de polyimide et de supports ultra-fins. L’énergie infrarouge est directement absorbée par le photoresist, réduisant le décalage thermique et permettant une montée en température rapide sans dépassement. La plateforme est compatible salle blanche Classe 1–100, avec des maté&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;riaux&lt;/a&gt; et surfaces sélectionnés pour limiter les particules. « Zéro génération de particules » n’est pas un slogan : nous la mesurons par rapport aux seuils métrologiques dans la fenêtre de process réelle.&lt;/p&gt;</description>
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