Chauffage infrarouge pour développeur de revêtement

Fri, 05 Jun 2026 03:51:16 +0800

Sur le sol de lithographie, la cuisson du photoresist n’est pas un luxe—c’est la ligne de démarcation entre réaliser un rendement et voir les déchets s’accumuler. Un dérive de 2°C pendant la cuisson douce suffit à étendre la variation de CD sur la plaquette. Et si la cuisson dure n’est pas cohérente, vous risquez de vous retrouver avec des résidus, une adhésion faible et un film résiduel qui se moque du décapant. Le chauffage IR du revêtement/développement doit fournir un comportement thermique répétable, cycle après cycle, sans déverser de particules dans le flux ou réduire la fenêtre de procédé.

Ce qui compte réellement en coulisses
Nous avons construit le chauffage IR du revêtement/développement autour d’émetteurs infrarouges à ondes courtes (NIR)—chauffage couplé direct avec contrôle en boucle fermée. Le résultat est une uniformité au niveau de la plaquette de ±0,1°C sur la plaque de cuisson, de sorte que le photoresist reçoit le même budget thermique d’un bord à l’autre. La réponse est inférieure à une seconde, ce qui vous permet de maintenir le taux de montée et le temps de maintien de manière précise. Il est compatible avec les salles blanches de classe 1 à 100, grâce à un assemblage à faible dégazage et une architecture sans particules qui maintient les comptages de particules constants, même lors de longues séries de production. Le chauffage s’intègre dans des plateformes de revêtement/développement standard et est conçu pour un fonctionnement 24/7, avec une sortie stable sur des milliers de cycles de cuisson.

Développeur on Twin Tube Infrared Heating Tech

Chauffage infrarouge pour développeur de revêtement