Infrarotlampe mit Luftmessereinheit

Tue, 09 Jun 2026 03:21:28 +0800

Auf dem Fertigungsboden ist das Backen von Photoresist kein Nice-to-have – es ist Ihr thermisches Budget, ganz klar. Eine Schwankung von 1°C kann kritische Abmessungen verschieben, und ein Partikel aus einer heißen Zone kann eine große Anzahl guter Wafer zerstören. Deshalb haben wir eine Infrarotlampe mit einer Air-Knife-Einheit entwickelt, die diese Gegebenheiten als Basis und nicht als Ausnahme betrachtet.

Was unter der Haube zählt
Wir kombinieren kurzwellige Infrarotstrahler mit einem Hochgeschwindigkeits-Air-Knife. Die Strahler reagieren innerhalb von Millisekunden, was die geschlossene Regelschleife eng hält und eine Wafer-Level-Uniformität von ±0,1°C über die Backfläche gewährleistet. Das Air-Knife durchdringt die Grenzschicht und entfernt Mikro-Kontaminationen, während der Abluftweg isoliert ist, sodass die Partikelanzahl in Umgebungen der Klassen 1–100 konstant bleibt. Die Leistungsdichte ist anpassbar für Wafer von 150 mm bis 300 mm, und das thermische Profil wiederholt sich Chargen für Charge. Die Leistung bleibt über 5.000+ Stunden innerhalb von 2 %, und die Einheit ist so konstruiert, dass sie auf die Schnittstelle und den Platzbedarf gängiger Halbleiterausrüstungen passt.

Messer on Twin Tube Infrared Heating Tech

Infrarotlampe mit Luftmessereinheit