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		<title>Degas on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
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				<title>Wafer Entgaser mit Infrarotheizer</title>
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				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 05:27:04 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Wafer Entgaser mit Infrarotheizer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Bereich der Lithografie kann ein lokaler Temperaturanstieg von 2°C auf der Waferoberfläche während des Weichbrennvorgangs dazu führen, dass die kritischen Abmessungen verändert werden – außerdem kann dies dazu führen, dass die erforderliche Belichtungszeit verdoppelt wird. Man kann nicht nach jedem Produktionszyklus nach solchen Temperaturschwankungen suchen. Der Infrarotheizer sorgt dafür, dass die Temperatur im gewünschten Bereich bleibt – also auf dem Niveau des Resistprofils und nicht aufgrund von Prozessvarianzen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was technisch wichtig ist:&lt;/strong&gt;&#xA;Wir verwenden kurzwelliges Infrarotlicht zur schnellen, direkten Erwärmung der Wafer. Dabei wird die Reaktion der Wafer selbst berücksichtigt. Dadurch wird eine Temperaturhomogenität von ±0,1°C innerhalb des gesamten Prozessfensters erreicht. Zudem bleibt die Temperatur bei jeder Produktion konstant. Der Heizer wird in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt; er erzeugt keine Partikel und verfügt über einen geschlossenen Aufbau mit geringer Gasentwicklung. So wird eine stabile Leistung auch bei 24/7-Betrieb gewährleistet – ohne unerwartete Ausfälle und mit planbaren Wartungsintervallen.&lt;/p&gt;</description>
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