http://twintube-ir.com/cs/tags/processing/ Recent content in Processing on Twin Tube Infrared Heating Tech Hugo cs Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/cs/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Fri, 03 Jul 2026 08:12:42 +0800 http://twintube-ir.com/cs/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Světlo pro ohřev při zpracování destiček SiC"></p> <p>Na výrobní lince prostě tam ten <a href="https://o-yate.net">polovodi</a>čový destička leží a čeká na zahřátí pomocí fotoresistu, které zajistí požadovaný tvar destičky. I malá změna teploty o zlomek stupně může způsobit problémy – <a href="https://goldisgood.com">kvalita</a> výrobku se začne zhoršovat ještě předtím, než to procesor vůbec zaznamená.</p> <p><strong>Co je ve skutečnosti důležité</strong> Používáme halogenovou žárovku s krátkovlnným infračerveným zářením umístěnou v kvartovém obalu. Tato žárovka umožňuje rychlou tepelnou reakci a zachovává rovnoměrnost teploty na povrchu destičky. Na celé ploše zahřívání udržujeme rozsah teploty na úrovni ±0,1 °C, takže parametry zahřívání zůstávají stabilní v každé sérii výroby.</p> http://twintube-ir.com/cs/posts/optical-wafer-processing-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800 http://twintube-ir.com/cs/posts/optical-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Topná jednotka pro zpracování optických waferů"></p> <p>Na výrobní lince zpracování <a href="https://o-yate.net">fotorezistu</a> neodpouští teplotní odchylky. Rozdíl 0,5°C mezi teplem a chladem po povrchu waferu během soft bake nebo hard bake se projeví jako variace šířky linií a jeden částicový incident může způsobit značné škody. Potřebujete topnou jednotku pro zpracování waferů, která funguje jako pevná procesní konstanta, nikoli jako další proměnná.</p> <p>Klíčové je opakovatelné dodání tepla bez zásahu do čistoty čisté místnosti. Naši optickou topnou jednotku pro zpracování waferů jsme postavili kolem krátkovlnného infračerveného záření (SWIR) a <a href="https://henruite.com">architektury</a> s křemenným tepelným prvkem, přičemž jsme ověřili ±0,1°C uniformitu teploty na waferu o průměru 300 mm. Zařízení pracuje v čistých prostorách třídy 1–100 a je ověřeno, že nevytváří žádné částice až do prahů menších než 0,1 μm. Profil pečení fotorezistu mezi jednotlivými cykly zůstává konzistentní a v průběhu výrobních směn vydrží nepřetržitý provoz 24/7 bez neplánovaných výpadků.</p>