<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>অপটিক্যাল on Twin Tube Infrared Heating Tech</title>
		<link>http://twintube-ir.com/bn/tags/%E0%A6%85%E0%A6%AA%E0%A6%9F%E0%A6%BF%E0%A6%95%E0%A7%8D%E0%A6%AF%E0%A6%BE%E0%A6%B2/</link>
		<description>Recent content in অপটিক্যাল on Twin Tube Infrared Heating Tech</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>bn</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://twintube-ir.com/bn/tags/%E0%A6%85%E0%A6%AA%E0%A6%9F%E0%A6%BF%E0%A6%95%E0%A7%8D%E0%A6%AF%E0%A6%BE%E0%A6%B2/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>অপটিক্যাল ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণ হিটার</title>
				<link>http://twintube-ir.com/bn/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 12:10:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://twintube-ir.com/bn/posts/optical-wafer-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://twintube-ir.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;অপটিক্যাল ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণ হিটার&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;On the fab floor, photoresist processing doesn’t forgive thermal drift. A 0.5°C hot/cold spread across the wafer during soft bake or hard bake shows up as linewidth variation, and one particle event can kill a lot. You need a wafer processing heater that acts like a fixed process constant, not another variable.&#xA;ফ্যাব ফ্লোরে, ফটোরেসিস্ট প্রক্রিয়াকরণ তাপমাত্রার বিচ্যুতি মেনে নেয় না। সফট বেক বা হার্ড বেকের সময় ওয়াফারের উপর 0.5°C তাপমাত্রার ওঠানামা লাইনউইডথে পার্থক্য হিসেবে দেখা দেয়, এবং একটি কণার ঘটনা অনেক ক্ষতি করতে পারে। আপনাকে এমন একটি ওয়াফার প্রক্রিয়াকরণ হিটার দরকার যা একটি স্থির প্রক্রিয়া ধ্রুবক হিসেবে কাজ করে, আরেকটি পরিবর্তনশীল নয়।&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
